SEM磨削
電子反向散射衍射（EBSD）環(huán)境控制的樣品制備離子束制備SEM樣品制備
最先進的離子銑削和拋光系統。它是緊湊的，精確的，并且始終如一地產生高質量的掃描電子顯微鏡樣品，以最短的時間用于多種應用。
MODEL 1061SEM 研磨機
這是一款先進的離子研磨和拋光系統。它結構緊湊、精度高，能夠在最短時間內為各種應用 consistently 生產出高質量的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品。
Model 1061 SEM Mill 規(guī)格說明
離子源
兩個TrueFocus離子源
可變能量操作（100 eV 至 10.0 keV）
束流密度高達 10 mA/cm2
研磨角度范圍：0 至 +10°
可選擇單離子源或雙離子源操作
手動或電動（可選）離子源角度調節(jié)
獨立的離子源能量控制
可調節(jié)的束斑尺寸
每個離子源配備法拉第杯，用于直接測量束流，便于優(yōu)化和調整離子源參數以適應特定應用
樣品臺
樣品尺寸：
橫截面*
最大：10 x 10 x 4.0 mm [0.39 x 0.39 x 0.157 in.]
最?。? x 3 x 0.7 mm [0.12 x 0.12 x 0.028 in.]
平面
直徑32 mm，高度25 mm [1.25 x 1 in.]
自動樣品厚度檢測，以確定研磨平面并最大化處理效率
360°樣品旋轉，轉速可調
樣品搖擺功能
磁性編碼器提供絕對定位精度
用戶界面
通過254 mm [10 in.]、符合人體工程學的可調節(jié)觸摸屏控制儀器操作
*標準尺寸；其他尺寸可根據要求提供。
MODEL 1061SEM Mill
這是一款先進的離子研磨和拋光系統。它結構緊湊、精度高，能夠在最短時間內為各種應用 consistently 生產出高質量的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品。
真空系統
渦輪分子拖曳泵和無油多級隔膜泵
冷陰極全范圍真空傳感器
工藝氣體
超高純氬氣（99.999%）；標稱輸送壓力為15 psi
使用兩個質量流量控制器實現自動氣體控制
自動終止
通過時間或溫度自動終止
原位觀察和成像
使用立體顯微鏡或高倍顯微鏡時，可在研磨位置原位監(jiān)測樣品
觀察窗口由可編程快門保護，防止濺射材料堆積并保持原位觀察樣品的能力
樣品冷卻（可選）
液氮傳導冷卻，配備集成杜瓦瓶和自動溫度聯鎖
杜瓦瓶靠近儀器操作員
可編程并保持從環(huán)境溫度到低溫的特定溫度
可選：
標準杜瓦瓶容量（3至5小時的低溫條件）
擴展杜瓦瓶容量（12小時以上的低溫條件）
真空或惰性氣體傳輸膠囊（可選）
允許在真空或惰性氣體環(huán)境中傳輸或存儲樣品
橫截面工作站（可選）
生產高質量的橫截面樣品
樣品通過粘合劑固定在掩膜上
允許精確定位感興趣區(qū)域（X、Y和θ）
適用于多種材料，包括半導體器件、多層材料、陶瓷和硬/脆材料
制備的感興趣區(qū)域平坦且無損傷，便于后續(xù)SEM成像和分析
適應多種樣品和掩膜尺寸：
樣品和掩膜在橫向和角度上對齊
單個掩膜可多次使用
夾持橫截面工作站（可選）
生產高質量的橫截面樣品
適用于可能被粘合劑損壞的樣品；樣品通過夾持掩膜固定，無需粘合劑
允許精確定位感興趣區(qū)域（X、Y和θ）
適用于多種材料，包括半導體器件、多層材料、陶瓷和硬/脆材料
制備的感興趣區(qū)域平坦且無損傷，便于后續(xù)SEM成像和分析
適應多種樣品和掩膜尺寸：
樣品和掩膜在橫向和角度上對齊
單個掩膜可多次使用
堆棧燈（可選）
堆棧燈指示器，用于從遠處確定研磨操作狀態(tài)
顯微鏡（可選）
負載鎖窗口可容納以下顯微鏡：
7至45倍立體顯微鏡附件，用于直接觀察樣品
525倍高倍顯微鏡和CMOS（互補金屬氧化物半導體）相機系統，用于特定位置的圖像采集和顯示
1,960倍高倍顯微鏡和CMOS相機系統，用于特定位置的圖像采集和顯示
樣品照明
高倍顯微鏡和立體顯微鏡均配備光源，提供自上而下、用戶可調的反射樣品照明
外殼尺寸
寬度（包括兩側的維護空間）：127 cm [50 in.]
高度：
最小高度（無顯微鏡或堆棧燈選項）：61 cm [32 in.]
最大高度（帶堆棧燈選項）：77 cm [38 in.]
深度（包括維護空間和排氣扇氣流空間）：102 cm [40 in.]
外殼設計便于維護時輕松訪問內部組件
咨詢電話：13522079385
重量
73 kg [161 lb.]
電源
100/120/220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W
保修
一年
