MRF? 拋光由 QED 獨(dú)家提供，靈活快速、可靠且準(zhǔn)確。
借助車間中的 MRF 機(jī)器，您可以將光學(xué)表面拋光至原始形狀、形狀和光潔度，無論對(duì)稱性、幾何形狀或斜率變化如何。
我們的 MRF 系統(tǒng)系列具有許多優(yōu)勢(shì)，可以消除傳統(tǒng)拋光的固有問題。
磁流變法的優(yōu)點(diǎn)：
MRF 為精密光學(xué)制造帶來了精度、確定性和可重復(fù)性。
提供完全確定性的過程，可以表征為非常高的精度
符合復(fù)雜表面，提供拋光非球面和完全自由形狀的靈活性
由于去除率高，因此縮短了循環(huán)時(shí)間
保持工藝穩(wěn)定性
提供精密光學(xué)制造系統(tǒng)，擴(kuò)大設(shè)計(jì)選擇并提高成本效益
拋光球面透鏡、非球面透鏡、棱鏡、自由曲面等。
磁流變拋光
更快地生產(chǎn)更好的光學(xué)器件。
QED 的 MRF 計(jì)算機(jī)控制拋光系統(tǒng)可確定地產(chǎn)生更好的高精度光學(xué)器件。
無與倫比的準(zhǔn)確性和重復(fù)性
高精度表面 (lambda/50)
透射波前校正（窗口、相位板、一個(gè)表面上的整個(gè)系統(tǒng)校正）
光學(xué)玻璃、單晶（氟化鈣、硅……）和陶瓷
方形和矩形孔徑表面，例如棱鏡、圓柱體和光空白基板
溫和和狂野的非球面、圓柱體和自由形狀
高深寬比光學(xué)器件和基板（薄膜濾光片、標(biāo)準(zhǔn)具基板、半導(dǎo)體晶圓等）
MRF 實(shí)現(xiàn)了許多光學(xué)行業(yè)人士過去認(rèn)為不可能的事情。
拋光球形、非球面、自由形狀、圓柱形或任何其他數(shù)學(xué)定義的形狀
解決厚度均勻性（對(duì)于絕緣體上硅半導(dǎo)體晶圓應(yīng)用很重要）或光學(xué)厚度
MRF 還可以通過以下方式提高表面完整性：
消除微裂紋和地下?lián)p傷
消除殘余應(yīng)力
提高玻璃對(duì)激光損傷的抵抗力
磁流變拋光
磁場(chǎng)產(chǎn)生鐵顆粒的堅(jiān)硬結(jié)構(gòu)，迫使水和磨料以薄層形式到達(dá)頂部。創(chuàng)建了一個(gè)收斂間隙。形成核心，形成剪切流體層。產(chǎn)生壓力梯度并產(chǎn)生基于剪切的高速去除。
工件安裝在距移動(dòng)的球形輪固定距離處。位于輪表面下方的電磁體在輪和工件之間的間隙中產(chǎn)生磁場(chǎng)。當(dāng) MR 流體輸送到砂輪時(shí)，磁場(chǎng)將其拉向砂輪表面，并將工件放入 MR 流體帶中，從而形成子孔徑拋光工具，也稱為“光斑”。當(dāng)工件以旋轉(zhuǎn)或光柵路徑掃過拋光區(qū)域時(shí)，復(fù)雜的計(jì)算機(jī)程序確定改變工件位置的時(shí)間表。
計(jì)算機(jī)數(shù)控、精密工作站和復(fù)雜的計(jì)算機(jī)算法有助于確保 MRF 拋光系統(tǒng)的自動(dòng)化和穩(wěn)健性。易于使用的觸摸屏界面引導(dǎo)操作員完成自動(dòng)化過程的每一步。穩(wěn)定性、可預(yù)測(cè)性和可重復(fù)性是每個(gè) MRF 拋光周期的特征。
直觀且易于使用
光學(xué)表面誤差在干涉儀上得到全面表征，并傳輸至 MRF 系統(tǒng)。
用戶友好的軟件可以計(jì)算糾正表面誤差所需的最佳刀具路徑。
預(yù)運(yùn)行設(shè)置通過集成模擬進(jìn)行驗(yàn)證。
拋光過程中實(shí)時(shí)監(jiān)控進(jìn)度。
高級(jí)分析功能評(píng)估最終結(jié)果。
1、磁流變拋光Q22-1200
使用一臺(tái)機(jī)器即可對(duì)尺寸達(dá) 1.2 米的研磨自由曲面光學(xué)元件進(jìn)行高精度拋光和精加工！
最新的磁流變射頻技術(shù)
擴(kuò)展尺寸能力
拋光孔徑尺寸可達(dá) 1200 mm
QED.NET軟件
EFMS（電子流體監(jiān)控系統(tǒng)）流體控制系統(tǒng)。
技術(shù)能力
拋光最大 1200 mm x 1200 mm 的平球面、非球面、柱面和自由曲面光學(xué)器件
多部分批量拋光軟件
提供 4 種不同的軸配置
可互換的拋光頭
50 毫米 MRF 輪可以拋光細(xì)小的表面特征并減少邊緣效應(yīng)。
370 mm MRF 砂輪具有較高的材料去除率，可快速覆蓋大表面。
拋光墊可以進(jìn)行預(yù)拋光或平滑處理：
可變軌道和自旋轉(zhuǎn)速
可變壓力
50 毫米和 100 毫米墊拋光頭
咨詢電話：13522079385
技術(shù)規(guī)格：
工件
最大工件尺寸* 1200毫米
最大工件重量* 400公斤（含鏡架）
最大半角 30度
工件固定方式** 機(jī)械式（真空可選）
軸*** X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp
移動(dòng)范圍***
（X） 1606毫米
(是) 1016毫米
（Z，Z素?cái)?shù)） 740毫米
(二) B +/-32 度
（C） C +/-35 度
（問、答） 連續(xù)或 360 度
定位精度***
（X、Y、Z） +/- 0.0076 毫米
（乙、問） +/- 20 角秒
（C） +/- 10 角秒
2、磁流變拋光Q22-750P2
Q22-750P2 是一款大孔徑 MRF 機(jī)器，將 MRF 成形能力擴(kuò)展到大型、長(zhǎng)半徑零件。
3、磁流變拋光Q22-600
Q22-600 為拋光大孔徑精密光學(xué)器件提供了更多選擇。
4、磁流變拋光Q-FLEX 300
Q-flex 300 為任何光學(xué)車間（從原型到批量生產(chǎn)）帶來了更多功能和效率。
5、磁流變拋光Q-FLEX 100
Q-flex 100 為任何光學(xué)車間（從原型到批量生產(chǎn)）帶來了更多功能和效率。
